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04.06.2018 | Original Paper: Nano-structured materials (particles, fibers, colloids, composites, etc.) | Ausgabe 1/2018

Journal of Sol-Gel Science and Technology 1/2018

A cationic surfactant-induced selective etching strategy for the synthesis of organosilica hollow nanospheres

Zeitschrift:
Journal of Sol-Gel Science and Technology > Ausgabe 1/2018
Autoren:
Yu Wang, Lianxi Chen, Zhenhui Liu, Jie Li, Pengpeng Wang
Wichtige Hinweise

Electronic supplementary material

The online version of this article (https://​doi.​org/​10.​1007/​s10971-018-4705-z) contains supplementary material, which is available to authorized users.

Abstract

The simple and effective synthesis of well-defined organosilica hollow nanospheres (OHNSs) for fundamental research and practical applications is still a significant challenge. In this work, a facile “cationic surfactant-induced selective etching” strategy was developed for the fabrication of hollow thiocyanatopropyl silsesquioxanes (thiocyanatopropyl-SQ), mercaptopropyl silsesquioxane (mercaptopropyl-SQ) from cyanoethyl-SQ@thiocyanatopropyl-SQ and cyanoethyl-SQ@mercaptopropyl-SQ, respectively. The experiments demonstrated that cetyltrimethylammonium bromide (CTAB) had remarkable influence on the formation of hollow structure and could accelerate the etching process significantly. A formation mechanism initiated by the adsorption of cationic surfactant followed by the etching of inner core with NH3·H2O was proposed. Hollow thiocyanatopropyl-SQ and mercaptopropyl-SQ with various shell thickness could be prepared by manipulating the amount of CTAB. And large-scale OHNSs were obtained at appropriate concentration of CTAB through this strategy. Moreover, this strategy might be further extended to fabricate OHNSs with other worthy functional groups.

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10971_2018_4705_MOESM1_ESM.doc
Literatur
Über diesen Artikel

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