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15.07.2016 | Ausgabe 3/2016

Journal of Computational Electronics 3/2016

Analog and RF performance of doping-less tunnel FETs with \(\hbox {Si}_{0.55} \hbox {Ge}_{0.45}\) source

Zeitschrift:
Journal of Computational Electronics > Ausgabe 3/2016
Autoren:
Sunny Anand, R. K. Sarin

Abstract

This paper reports studies of a doping-less tunnel field-effect transistor (TFET) with a \(\hbox {Si}_{0.55} \hbox {Ge}_{0.45}\) source structure aimed at improving the performance of charge-plasma-based doping-less TFETs. The proposed device achieves an improved ON-state current (\(I_{{\mathrm{ON}}} \sim {4.88} \times {10}^{-5}\,{\mathrm{A}}/\upmu {\mathrm{m}}\)), an \(I_\mathrm{ON}/I_\mathrm{OFF}\) ratio of \({6.91} \times {10}^{12}\), an average subthreshold slope (\(\hbox {AV-SS}\)) of \(\sim \) \({64.79}\,{\mathrm{mV/dec}}\), and a point subthreshold slope (SS) of 14.95 mV/dec. This paper compares the analog and radio of frequency (RF) parameters of this device with those of a conventional doping-less TFET (DLTFET), including the transconductance (\(g_{{\mathrm{m}}}\)), transconductance-to-drain-current ratio \((g_\mathrm{m}/I_\mathrm{D})\), output conductance \((g_\mathrm{d})\), intrinsic gain (\(A_{{\mathrm{V}}}\)), early voltage (\(V_{{\mathrm{EA}}}\)), total gate capacitance (\( C_{{\mathrm{gg}}}\)), and unity-gain frequency (\(f_{{\mathrm{T}}}\)). Based on the simulated results, the \(\hbox {Si}_{0.55}\hbox {Ge}_{0.45}\)-source DLTFET is found to offer superior analog as well as RF performance.

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