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Erschienen in: Microsystem Technologies 9-10/2012

01.09.2012 | Technical Paper

Analysis of inter-symbol-interference caused by shift misalignment of two objective lenses in high-NA micro holographic storage

verfasst von: Cheol-Ki Min, Do-Hyung Kim, Sungbin Jeon, Kyoung-Su Park, Young-Pil Park, Hyunseok Yang, No-Cheol Park, Jaegeun Kim

Erschienen in: Microsystem Technologies | Ausgabe 9-10/2012

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Abstract

A high-numerical-aperture (NA) optical system with narrower recording distance in transverse direction is required to increase the areal-density in micro holographic storage. When the first data is recorded by shift misalignment of the two objective lenses (OLs) in transverse direction, the second data can cause inter-symbol-interference (ISI) by pre-recorded first data. A tolerance analysis in transverse direction is required because shift misalignment of the two OLs causes ISI and reduces the total-density. This research analyzes the effects of ISI using a 0.85 NA and 320 nm recording distance between two microgratings in adjacent region. We define the recording tolerance of a single micrograting and the calculate total-density based on blu-ray disc specifications while considering the shift errors. Finally, we define the recording tolerance of successively recorded microgratings in adjacent region and propose recording distance for avoiding ISI.

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Literatur
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Metadaten
Titel
Analysis of inter-symbol-interference caused by shift misalignment of two objective lenses in high-NA micro holographic storage
verfasst von
Cheol-Ki Min
Do-Hyung Kim
Sungbin Jeon
Kyoung-Su Park
Young-Pil Park
Hyunseok Yang
No-Cheol Park
Jaegeun Kim
Publikationsdatum
01.09.2012
Verlag
Springer-Verlag
Erschienen in
Microsystem Technologies / Ausgabe 9-10/2012
Print ISSN: 0946-7076
Elektronische ISSN: 1432-1858
DOI
https://doi.org/10.1007/s00542-012-1600-3

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