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Erschienen in: Journal of Electronic Materials 4/2021

19.01.2021 | Original Research Article

Barium Titanate Nickelate Nanostructured Materials Prepared by Solution Process for Resistive Random Access Memory Application

verfasst von: Yu-An Li, Ke-Jing Lee, Li-Wen Wang, Yeong-Her Wang

Erschienen in: Journal of Electronic Materials | Ausgabe 4/2021

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Abstract

Barium titanate nickelate (BTN) nanorod (NR)-based resistive random access memory (RRAM) has been demonstrated by using the hydrothermal method. The prepared BTN NR materials have the advantages of ease of fabrication, low temperature application, ability to grow various materials, and relative cost effectiveness. In addition, the BTN NR-based RRAM displayed a highly repeatable and forming-free bipolar resistive switching behavior with an ON/OFF ratio of over 105. The resistive switching behavior may be related to the oxygen vacancies on the surface of the BTN NRs, giving rise to the formation of straight and extensible conducting filaments along each vertically aligned BTN NR. Compared to its counterpart of BTN thin film, superior reproducibility was also observed, demonstrating that the nanostructured material provides an effective way to improve the memory properties.

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Metadaten
Titel
Barium Titanate Nickelate Nanostructured Materials Prepared by Solution Process for Resistive Random Access Memory Application
verfasst von
Yu-An Li
Ke-Jing Lee
Li-Wen Wang
Yeong-Her Wang
Publikationsdatum
19.01.2021
Verlag
Springer US
Erschienen in
Journal of Electronic Materials / Ausgabe 4/2021
Print ISSN: 0361-5235
Elektronische ISSN: 1543-186X
DOI
https://doi.org/10.1007/s11664-020-08701-x

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