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Erschienen in: Journal of Computational Electronics 1/2014

01.03.2014

Dual material gate junctionless tunnel field effect transistor

verfasst von: Punyasloka Bal, Bahniman Ghosh, Partha Mondal, M. W. Akram, Ball Mukund Mani Tripathi

Erschienen in: Journal of Computational Electronics | Ausgabe 1/2014

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Abstract

This paper proposes a junctionless tunnel field effect transistor (JLTFET) with dual material gate (DMG) structure and the performance was studied on the basis of energy band profile modulation. The two-dimensional simulation was carried out to show the effect of conduction band minima on the abruptness of transition between the ON and OFF states, which results in low subthreshold slope (SS). Appropriate selection of work function for source and drain side gate metal of a double metal gate JLTFET can also significantly reduce the subthreshold slope (SS), OFF state leakage and hence gives improved I ON/I OFF.

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Literatur
1.
Zurück zum Zitat Colinge, J.-P., Lee, C.-W., Afzalian, A., Akhavan, N.D., Yan, R., Ferain, I., Razavi, P., O’Neill, B., Blake, A., White, M., Kelleher, A.-M., McCarthy, B., Murphy, R.: Nat. Nanotechnol. 5(3), 225–229 (2010) CrossRef Colinge, J.-P., Lee, C.-W., Afzalian, A., Akhavan, N.D., Yan, R., Ferain, I., Razavi, P., O’Neill, B., Blake, A., White, M., Kelleher, A.-M., McCarthy, B., Murphy, R.: Nat. Nanotechnol. 5(3), 225–229 (2010) CrossRef
2.
Zurück zum Zitat Gundapaneni, S., Bajaj, M., Pandey, R.K., Murali, K.V.R., Ganguly, S., Kottantharayil, A.: IEEE Trans. Electron Devices 59(4), 1023–1029 (2012) CrossRef Gundapaneni, S., Bajaj, M., Pandey, R.K., Murali, K.V.R., Ganguly, S., Kottantharayil, A.: IEEE Trans. Electron Devices 59(4), 1023–1029 (2012) CrossRef
3.
Zurück zum Zitat Bjork, M.T., Knoch, J., Schmid, H., Riel, H., Riess, W.: Appl. Phys. Lett. 92(19), 193504 (2008) CrossRef Bjork, M.T., Knoch, J., Schmid, H., Riel, H., Riess, W.: Appl. Phys. Lett. 92(19), 193504 (2008) CrossRef
4.
Zurück zum Zitat Boucart, K., Ionescu, A.M.: IEEE Trans. Electron Devices 54(7), 1725–1733 (2007) CrossRef Boucart, K., Ionescu, A.M.: IEEE Trans. Electron Devices 54(7), 1725–1733 (2007) CrossRef
5.
Zurück zum Zitat Kazazis, D., Jannaty, P., Zaslavsky, A., Le Royer, C., Tabone, C., Clavelier, L., Cristoloveanu, S.: Appl. Phys. Lett. 94, 263508 (2009) CrossRef Kazazis, D., Jannaty, P., Zaslavsky, A., Le Royer, C., Tabone, C., Clavelier, L., Cristoloveanu, S.: Appl. Phys. Lett. 94, 263508 (2009) CrossRef
6.
Zurück zum Zitat Nayfeh, O.M., Chleirigh, C.N., Hennessy, J., Gomez, L., Hoyt, J.L., Antoniadis, D.A.: IEEE Electron Device Lett. 29(9), 1074–1077 (2008) CrossRef Nayfeh, O.M., Chleirigh, C.N., Hennessy, J., Gomez, L., Hoyt, J.L., Antoniadis, D.A.: IEEE Electron Device Lett. 29(9), 1074–1077 (2008) CrossRef
8.
Zurück zum Zitat Saurabh, S., Kumar, M.J.: Novel attributes of a dual material gate nanoscale tunnel field-effect transistor. IEEE Trans. Electron Devices 58(2), 404–410 (2011) CrossRef Saurabh, S., Kumar, M.J.: Novel attributes of a dual material gate nanoscale tunnel field-effect transistor. IEEE Trans. Electron Devices 58(2), 404–410 (2011) CrossRef
9.
Zurück zum Zitat Long, W., Ou, H., Kuo, J.M., Chin, K.K.: Dual-material gate (DMG) field effect transistor. IEEE Trans. Electron Devices 46(5), 865–870 (1999) CrossRef Long, W., Ou, H., Kuo, J.M., Chin, K.K.: Dual-material gate (DMG) field effect transistor. IEEE Trans. Electron Devices 46(5), 865–870 (1999) CrossRef
10.
Zurück zum Zitat Na, K.Y., Kim, Y.S.: Silicon complementary metal-oxide-semiconductor field-effect transistors with dual work function gate. Jpn. J. Appl. Phys. 45(12), 9033–9036 (2006) CrossRef Na, K.Y., Kim, Y.S.: Silicon complementary metal-oxide-semiconductor field-effect transistors with dual work function gate. Jpn. J. Appl. Phys. 45(12), 9033–9036 (2006) CrossRef
11.
Zurück zum Zitat Ghosh, B., Akram, M.W.: IEEE Electron Device Lett. 34(5), 584–586 (2013) CrossRef Ghosh, B., Akram, M.W.: IEEE Electron Device Lett. 34(5), 584–586 (2013) CrossRef
12.
Zurück zum Zitat Ghosh, B., Bal, P., Mondal, P.: J. Comput. Electron. 1569–8025, 1–9 (2013) Ghosh, B., Bal, P., Mondal, P.: J. Comput. Electron. 1569–8025, 1–9 (2013)
13.
Zurück zum Zitat Lilienfeld, J.E.: U.S. patent 1 745 175, Oct. 22, 1925 Lilienfeld, J.E.: U.S. patent 1 745 175, Oct. 22, 1925
15.
Zurück zum Zitat Lide, D.R.: CRC Handbook on Chemistry and Physics 89th edn. pp. 12–114. Taylor & Francis, London (2008) Lide, D.R.: CRC Handbook on Chemistry and Physics 89th edn. pp. 12–114. Taylor & Francis, London (2008)
16.
Zurück zum Zitat Hansch, W., Vogelsang, Th., Kirchner, R., Orlowski, M.: Solid-State Electron. 32(10), 839–849 (1989) CrossRef Hansch, W., Vogelsang, Th., Kirchner, R., Orlowski, M.: Solid-State Electron. 32(10), 839–849 (1989) CrossRef
17.
18.
Zurück zum Zitat Pawlak, M., Lauwers, A., Janssens, T., Anil, K., Opsomer, K., Maex, K., Vantomme, A., Kittl, J.: IEEE Electron Device Lett. 27, 99 (2006) CrossRef Pawlak, M., Lauwers, A., Janssens, T., Anil, K., Opsomer, K., Maex, K., Vantomme, A., Kittl, J.: IEEE Electron Device Lett. 27, 99 (2006) CrossRef
19.
Zurück zum Zitat King, T.-J., Pfiester, J.R., Saraswat, K.C.: IEEE Electron Device Lett. 12, 533 (1991) [Inspec] [ISI] CrossRef King, T.-J., Pfiester, J.R., Saraswat, K.C.: IEEE Electron Device Lett. 12, 533 (1991) [Inspec] [ISI] CrossRef
Metadaten
Titel
Dual material gate junctionless tunnel field effect transistor
verfasst von
Punyasloka Bal
Bahniman Ghosh
Partha Mondal
M. W. Akram
Ball Mukund Mani Tripathi
Publikationsdatum
01.03.2014
Verlag
Springer US
Erschienen in
Journal of Computational Electronics / Ausgabe 1/2014
Print ISSN: 1569-8025
Elektronische ISSN: 1572-8137
DOI
https://doi.org/10.1007/s10825-013-0505-4

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