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Erschienen in: Journal of Materials Science: Materials in Electronics 15/2017

19.04.2017

Effect of Co doping on the physical properties of Sn2S3 thin film

verfasst von: A. Mary Saroja, I. Kartharinal Punithavathy, S. Johnson Jeyakumar, A. R. Balu, S. Joshua Gnanamuthu

Erschienen in: Journal of Materials Science: Materials in Electronics | Ausgabe 15/2017

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Abstract

Cobalt doped Sn2S3 thin films with a dopant concentration of 1, 2 and 3 at. wt% have been coated on glass substrate by spray pyrolysis method and the structural, optical, electrical and magnetic properties of the film investigated. XRD pattern confirms the polycrystalline nature of the films and the preferential orientation of the crystal is along the (211) direction. The band gap energy of the undoped film is 1.77 eV and can be tailored by the addition of Co atoms. The absorption coefficient of all the films is of the order of 104 Ωcm−1 near the fundamental absorption edge and is very much suitable for photovoltaic applications. The electrical conductivity increases due to cobalt addition and is maximum for a concentration of 2 wt%. The presence of Cobalt in Sn2S3 thin film introduces ferromagnetic properties even at room temperature. Addition of Cobalt in Sn2S3 has improved its optical and electrical properties and also paved the way for its use as a dilute magnetic semiconductor (DMS).

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Metadaten
Titel
Effect of Co doping on the physical properties of Sn2S3 thin film
verfasst von
A. Mary Saroja
I. Kartharinal Punithavathy
S. Johnson Jeyakumar
A. R. Balu
S. Joshua Gnanamuthu
Publikationsdatum
19.04.2017
Verlag
Springer US
Erschienen in
Journal of Materials Science: Materials in Electronics / Ausgabe 15/2017
Print ISSN: 0957-4522
Elektronische ISSN: 1573-482X
DOI
https://doi.org/10.1007/s10854-017-6942-2

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