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Journal of Electronic Materials
Erschienen in: Journal of Electronic Materials 10/2018

09.07.2018

Electrochemical Growth of Cu(Ru) Films via Underpotential Deposition of Pb, Surface-Limited Redox Replacement of Cu, and Underpotential Deposition of Ru

verfasst von: J. S. Fang, M. Y. Hsu, Y. L. Cheng, G. S. Chen

Erschienen in: Journal of Electronic Materials | Ausgabe 10/2018

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Metadaten
Titel
Electrochemical Growth of Cu(Ru) Films via Underpotential Deposition of Pb, Surface-Limited Redox Replacement of Cu, and Underpotential Deposition of Ru
verfasst von
J. S. Fang
M. Y. Hsu
Y. L. Cheng
G. S. Chen
Publikationsdatum
09.07.2018
Verlag
Springer US
Erschienen in
Journal of Electronic Materials / Ausgabe 10/2018
Print ISSN: 0361-5235
Elektronische ISSN: 1543-186X
DOI
https://doi.org/10.1007/s11664-018-6493-1

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