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2022 | OriginalPaper | Chapter

6. Herstellung dreidimensionaler Strukturen in Silizium

Author : Ha Duong Ngo

Published in: Technologien der Mikrosysteme

Publisher: Springer Fachmedien Wiesbaden

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Zusammenfassung

Während sich bei der Herstellung von integrierten Schaltkreisen die ätztechnischen Prozesse nahezu ausschließlich auf planare Strukturen mit Ätztiefen von maximal einigen Mikrometern beschränken, erfordert die Mikrosystemtechnik vielfach eine dreidimensionale Strukturierung mit Ätztiefen, die sich nicht selten über die gesamte Scheibendicke ausdehnen. Zur Anwendung kommen in diesem Zusammenhang nasschemische Ätzverfahren und Trockenätzverfahren.

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Metadata
Title
Herstellung dreidimensionaler Strukturen in Silizium
Author
Ha Duong Ngo
Copyright Year
2022
Book
Technologien der Mikrosysteme

Print ISBN: 978-3-658-37497-6

Electronic ISBN: 978-3-658-37498-3

Copyright Year: 2022

DOI
https://doi.org/10.1007/978-3-658-37498-3_6