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Published in:

01-12-2016 | Research Article

Role of the carrier gas flow rate in monolayer MoS₂ growth by modified chemical vapor deposition

Authors: Hengchang Liu, Yuanhu Zhu, Qinglong Meng, Xiaowei Lu, Shuang Kong, Zhiwei Huang, Peng Jiang, Xinhe Bao

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Title: Role of the carrier gas flow rate in monolayer MoS2 growth by modified chemical vapor deposition
Authors: Hengchang Liu
Yuanhu Zhu
Qinglong Meng
Xiaowei Lu
Shuang Kong
Zhiwei Huang
Peng Jiang
Xinhe Bao
Publication date: 01-12-2016
Publisher: Tsinghua University Press
Published in: Nano Research / Issue 2/2017
Print ISSN: 1998-0124
Electronic ISSN: 1998-0000
DOI: https://doi.org/10.1007/s12274-016-1323-3

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