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Science China Technological Sciences
Erschienen in: Science China Technological Sciences 1/2020

02.04.2019 | Article

Flatness maintenance and roughness reduction of silicon mirror in chemical mechanical polishing process

verfasst von: BoCheng Jiang, DeWen Zhao, BingQuan Wang, HuiJia Zhao, YuHong Liu, XinChun Lu

Erschienen in: Science China Technological Sciences | Ausgabe 1/2020

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Metadaten
Titel
Flatness maintenance and roughness reduction of silicon mirror in chemical mechanical polishing process
verfasst von
BoCheng Jiang
DeWen Zhao
BingQuan Wang
HuiJia Zhao
YuHong Liu
XinChun Lu
Publikationsdatum
02.04.2019
Verlag
Science China Press
Erschienen in
Science China Technological Sciences / Ausgabe 1/2020
Print ISSN: 1674-7321
Elektronische ISSN: 1869-1900
DOI
https://doi.org/10.1007/s11431-018-9414-6

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