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Erschienen in: Science China Technological Sciences 2/2015

01.02.2015 | Article

Formation mechanism of multi-functional black silicon based on optimized deep reactive ion etching technique with SF6/C4F8

verfasst von: FuYun Zhu, XiaoSheng Zhang, HaiXia Zhang

Erschienen in: Science China Technological Sciences | Ausgabe 2/2015

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Metadaten
Titel
Formation mechanism of multi-functional black silicon based on optimized deep reactive ion etching technique with SF6/C4F8
verfasst von
FuYun Zhu
XiaoSheng Zhang
HaiXia Zhang
Publikationsdatum
01.02.2015
Verlag
Science China Press
Erschienen in
Science China Technological Sciences / Ausgabe 2/2015
Print ISSN: 1674-7321
Elektronische ISSN: 1869-1900
DOI
https://doi.org/10.1007/s11431-014-5753-4

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