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Glass and Ceramics
Erschienen in: Glass and Ceramics 5-6/2014

01.09.2014 | Materials Processing

Formation of the Crystalline Structure of a Silicon Surface in Active Media During Polishing

verfasst von: A. A. Kanaev, A. E. Gorodetskii

Erschienen in: Glass and Ceramics | Ausgabe 5-6/2014

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Abstract

When surfactants are present in polishing compositions severe damage is done to the initial crystal structure of a very thin (tenths and hundredths of a micron thick) surface layer of the material (silicon) being processed and the deformation-strength properties of the material change as a result of the Rebinder effect. The use of active additives in polishing compositions, including unconventional ones, makes it possible to decrease the thickness of the damaged layer by a factor of 1.5 – 2, significantly increasing the polishing efficiency in the process.
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Metadaten
Titel
Formation of the Crystalline Structure of a Silicon Surface in Active Media During Polishing
verfasst von
A. A. Kanaev
A. E. Gorodetskii
Publikationsdatum
01.09.2014
Verlag
Springer US
Erschienen in
Glass and Ceramics / Ausgabe 5-6/2014
Print ISSN: 0361-7610
Elektronische ISSN: 1573-8515
DOI
https://doi.org/10.1007/s10717-014-9644-8

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