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01.09.2014 | Materials Processing | Ausgabe 5-6/2014

Glass and Ceramics 5-6/2014

Formation of the Crystalline Structure of a Silicon Surface in Active Media During Polishing

Zeitschrift:
Glass and Ceramics > Ausgabe 5-6/2014
Autoren:
A. A. Kanaev, A. E. Gorodetskii
Wichtige Hinweise
Translated from Steklo i Keramika, No. 5, pp. 29 – 32, May, 2014.
When surfactants are present in polishing compositions severe damage is done to the initial crystal structure of a very thin (tenths and hundredths of a micron thick) surface layer of the material (silicon) being processed and the deformation-strength properties of the material change as a result of the Rebinder effect. The use of active additives in polishing compositions, including unconventional ones, makes it possible to decrease the thickness of the damaged layer by a factor of 1.5 – 2, significantly increasing the polishing efficiency in the process.

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