Skip to main content
main-content

Tipp

Weitere Artikel dieser Ausgabe durch Wischen aufrufen

06.02.2021 | Ausgabe 5/2021

Journal of Materials Science: Materials in Electronics 5/2021

Growth of high-quality epitaxy of GaAs on Si with engineered Ge buffer using MOCVD

Zeitschrift:
Journal of Materials Science: Materials in Electronics > Ausgabe 5/2021
Autoren:
Yong Du, Buqing Xu, Guilei Wang, Shihai Gu, Ben Li, Zhenzhen Kong, Jiahan Yu, Guobin Bai, Junjie Li, Wenwu Wang, Henry H. Radamson
Wichtige Hinweise

Publisher's Note

Springer Nature remains neutral with regard to jurisdictional claims in published maps and institutional affiliations.

Abstract

This article presents novel process methods to grow GaAs on 200 mm Si substrates with low threading dislocation density (TDD) and no anti-phase domains (APDs). The GaAs layers were grown on the engineered Ge buffer with thickness of 0.9 and 1.7 μm with surface roughness as low as 0.58 nm. The growth temperature of GaAs was tailored from low, intermediate, and high temperature (LT, IT, and HT) at 460 °C, 600 °C, and 670 °C, respectively, to impede the defects to propagate to the HT layer. It has been demonstrated that the quality of GaAs layers is sensitive to the surface roughness and layer quality of Ge buffer. Therefore, Ge buffer was grown selectively with lateral overgrowth over the wafer to decrease the defect density to a low level as possible for GaAs growth. For all samples, Chemical mechanical polishing (CMP) was applied for Ge buffer to ensure the surface roughness prior to GaAs growth. This study presents novel methods to optimize/improve GaAs growth on engineered Ge buffer grown on 0° − and 6° − miscut Si substrates. The impact of layer quality, surface roughness, and design of Ge buffer growth (selective or non-selective growth) on GaAs growth has been studied. The outcome of this study provides a monolithic solution for photonics and electronics in large size Si substrates.

Bitte loggen Sie sich ein, um Zugang zu diesem Inhalt zu erhalten

Sie möchten Zugang zu diesem Inhalt erhalten? Dann informieren Sie sich jetzt über unsere Produkte:

Springer Professional "Wirtschaft+Technik"

Online-Abonnement

Mit Springer Professional "Wirtschaft+Technik" erhalten Sie Zugriff auf:

  • über 69.000 Bücher
  • über 500 Zeitschriften

aus folgenden Fachgebieten:

  • Automobil + Motoren
  • Bauwesen + Immobilien
  • Business IT + Informatik
  • Elektrotechnik + Elektronik
  • Energie + Umwelt
  • Finance + Banking
  • Management + Führung
  • Marketing + Vertrieb
  • Maschinenbau + Werkstoffe
  • Versicherung + Risiko

Testen Sie jetzt 30 Tage kostenlos.

Springer Professional "Technik"

Online-Abonnement

Mit Springer Professional "Technik" erhalten Sie Zugriff auf:

  • über 50.000 Bücher
  • über 380 Zeitschriften

aus folgenden Fachgebieten:

  • Automobil + Motoren
  • Bauwesen + Immobilien
  • Business IT + Informatik
  • Elektrotechnik + Elektronik
  • Energie + Umwelt
  • Maschinenbau + Werkstoffe




Testen Sie jetzt 30 Tage kostenlos.

Springer Professional "Wirtschaft"

Online-Abonnement

Mit Springer Professional "Wirtschaft" erhalten Sie Zugriff auf:

  • über 58.000 Bücher
  • über 300 Zeitschriften

aus folgenden Fachgebieten:

  • Bauwesen + Immobilien
  • Business IT + Informatik
  • Finance + Banking
  • Management + Führung
  • Marketing + Vertrieb
  • Versicherung + Risiko




Testen Sie jetzt 30 Tage kostenlos.

Literatur
Über diesen Artikel

Weitere Artikel der Ausgabe 5/2021

Journal of Materials Science: Materials in Electronics 5/2021 Zur Ausgabe