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2022 | OriginalPaper | Buchkapitel

6. Herstellung dreidimensionaler Strukturen in Silizium

verfasst von : Ha Duong Ngo

Erschienen in: Technologien der Mikrosysteme

Verlag: Springer Fachmedien Wiesbaden

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Zusammenfassung

Während sich bei der Herstellung von integrierten Schaltkreisen die ätztechnischen Prozesse nahezu ausschließlich auf planare Strukturen mit Ätztiefen von maximal einigen Mikrometern beschränken, erfordert die Mikrosystemtechnik vielfach eine dreidimensionale Strukturierung mit Ätztiefen, die sich nicht selten über die gesamte Scheibendicke ausdehnen. Zur Anwendung kommen in diesem Zusammenhang nasschemische Ätzverfahren und Trockenätzverfahren.

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Metadaten
Titel
Herstellung dreidimensionaler Strukturen in Silizium
verfasst von
Ha Duong Ngo
Copyright-Jahr
2022
DOI
https://doi.org/10.1007/978-3-658-37498-3_6