Skip to main content
Erschienen in: Journal of Electronic Materials 5/2018

06.03.2018

Hetero-Material Gate Doping-Less Tunnel FET and Its Misalignment Effects on Analog/RF Parameters

verfasst von: Sunny Anand, R. K. Sarin

Erschienen in: Journal of Electronic Materials | Ausgabe 5/2018

Einloggen

Aktivieren Sie unsere intelligente Suche, um passende Fachinhalte oder Patente zu finden.

search-config
loading …

Sie haben noch keine Lizenz? Dann Informieren Sie sich jetzt über unsere Produkte:

Springer Professional "Wirtschaft+Technik"

Online-Abonnement

Mit Springer Professional "Wirtschaft+Technik" erhalten Sie Zugriff auf:

  • über 102.000 Bücher
  • über 537 Zeitschriften

aus folgenden Fachgebieten:

  • Automobil + Motoren
  • Bauwesen + Immobilien
  • Business IT + Informatik
  • Elektrotechnik + Elektronik
  • Energie + Nachhaltigkeit
  • Finance + Banking
  • Management + Führung
  • Marketing + Vertrieb
  • Maschinenbau + Werkstoffe
  • Versicherung + Risiko

Jetzt Wissensvorsprung sichern!

Springer Professional "Technik"

Online-Abonnement

Mit Springer Professional "Technik" erhalten Sie Zugriff auf:

  • über 67.000 Bücher
  • über 390 Zeitschriften

aus folgenden Fachgebieten:

  • Automobil + Motoren
  • Bauwesen + Immobilien
  • Business IT + Informatik
  • Elektrotechnik + Elektronik
  • Energie + Nachhaltigkeit
  • Maschinenbau + Werkstoffe




 

Jetzt Wissensvorsprung sichern!

Metadaten
Titel
Hetero-Material Gate Doping-Less Tunnel FET and Its Misalignment Effects on Analog/RF Parameters
verfasst von
Sunny Anand
R. K. Sarin
Publikationsdatum
06.03.2018
Verlag
Springer US
Erschienen in
Journal of Electronic Materials / Ausgabe 5/2018
Print ISSN: 0361-5235
Elektronische ISSN: 1543-186X
DOI
https://doi.org/10.1007/s11664-018-6174-0

Weitere Artikel der Ausgabe 5/2018

Journal of Electronic Materials 5/2018 Zur Ausgabe

Neuer Inhalt