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15.10.2018 | Energy materials | Ausgabe 3/2019

Journal of Materials Science 3/2019

High hardness and low dielectric constant thin films with oriented urea oligomers by physical vapor deposition

Zeitschrift:
Journal of Materials Science > Ausgabe 3/2019
Autoren:
Masahiro Morimoto, Tatsuya Fukutomi, Yasuko Koshiba, Kenji Ishida
Wichtige Hinweise

Electronic supplementary material

The online version of this article (https://​doi.​org/​10.​1007/​s10853-018-3000-2) contains supplementary material, which is available to authorized users.

Abstract

Oligomers of undecylurea (OUA11) thin films with a high crystallinity, surface hardness, perpendicular orientation, and low dielectric constant were fabricated by physical vapor deposition. The thin films were composed of single OUA11, which has a relatively high molecular weight (Mw: 2500, Mn: 1200) and could be vapor-deposited without thermal decomposition. These films had a much higher crystallinity and a high surface hardness level of 9H in the pencil hardness test. The dielectric constant of the OUA11 films is estimated to be 2.1–2.3 in the frequency range of 1 Hz–0.1 MHz, which is lower than that of typical low dielectric constant (low-k) materials. These physical and electrical properties are caused by the unique structure with the molecular dipoles-oriented parallel to the electrodes on the substrate and the strong intermolecular hydrogen bonds. The unique structure could not be observed with spin-coating and is specific to the vapor-deposited films. We expect that the OUA11 films with a high hardness and a low dielectric constant can be used not only as protective coatings but also as electronic materials.

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Zusatzmaterial
See supplementary materials for FT-IR RAS and transmission spectra of spin-coated OUA11 films a in the urea bond vibration region and b in the alkyl chain vibration region (TIFF 669 kb)
10853_2018_3000_MOESM1_ESM.tif
Literatur
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