Skip to main content
Erschienen in:
Buchtitelbild

2010 | OriginalPaper | Buchkapitel

1. Introduction

verfasst von : Amith Singhee

Erschienen in: Extreme Statistics in Nanoscale Memory Design

Verlag: Springer US

Aktivieren Sie unsere intelligente Suche, um passende Fachinhalte oder Patente zu finden.

search-config
loading …

Abstract

Tradition VLSI circuit design would contend with three general objectives Maximize performance: In the context of an SRAM bitcell, this may be captured by several different metrics, for example, the read current supplied by the cell, or the read access time, given a specific peripheral circuit. Minimize power consumption: For an SRAM bitcell, this could be, for instance, the active current drawn by the cell during a read operation, or the total leakage current drawn by the cell during standby. Maximize noise and noise susceptibility: Several metrics may measure robustness of the circuit operation to noise. Again for an SRAM bitcell, a measure can be the static noise margin (SNM) of the cell.

Sie haben noch keine Lizenz? Dann Informieren Sie sich jetzt über unsere Produkte:

Springer Professional "Wirtschaft+Technik"

Online-Abonnement

Mit Springer Professional "Wirtschaft+Technik" erhalten Sie Zugriff auf:

  • über 102.000 Bücher
  • über 537 Zeitschriften

aus folgenden Fachgebieten:

  • Automobil + Motoren
  • Bauwesen + Immobilien
  • Business IT + Informatik
  • Elektrotechnik + Elektronik
  • Energie + Nachhaltigkeit
  • Finance + Banking
  • Management + Führung
  • Marketing + Vertrieb
  • Maschinenbau + Werkstoffe
  • Versicherung + Risiko

Jetzt Wissensvorsprung sichern!

Springer Professional "Technik"

Online-Abonnement

Mit Springer Professional "Technik" erhalten Sie Zugriff auf:

  • über 67.000 Bücher
  • über 390 Zeitschriften

aus folgenden Fachgebieten:

  • Automobil + Motoren
  • Bauwesen + Immobilien
  • Business IT + Informatik
  • Elektrotechnik + Elektronik
  • Energie + Nachhaltigkeit
  • Maschinenbau + Werkstoffe




 

Jetzt Wissensvorsprung sichern!

Literatur
2.
Zurück zum Zitat Pelgrom MJM, Duinmaijer ACJ, Welbers APG (1989) Matching properties of MOS transistors. IEEE J Solid-State Circuits 24(5):1433–1440CrossRef Pelgrom MJM, Duinmaijer ACJ, Welbers APG (1989) Matching properties of MOS transistors. IEEE J Solid-State Circuits 24(5):1433–1440CrossRef
3.
Zurück zum Zitat Fishman GS (2006) A first course in Monte Carlo. Duxbury, Belmont Fishman GS (2006) A first course in Monte Carlo. Duxbury, Belmont
4.
Zurück zum Zitat Agarwal K, Liu F, McDowell C, Nassif S, Nowka K, Palmer M, Acharyya D, Plusquellic J (2006) A test structure for characterizing local device mismatches. In: Symposium on VLSI circuits digest of technical papers, 2006 Agarwal K, Liu F, McDowell C, Nassif S, Nowka K, Palmer M, Acharyya D, Plusquellic J (2006) A test structure for characterizing local device mismatches. In: Symposium on VLSI circuits digest of technical papers, 2006
5.
Zurück zum Zitat Chang H, Zolotov V, Narayan S, Visweswariah C (2005) Parameterized block-based statistical timing analysis with non-Gaussian parameters, nonlinear delay functions. In: Proceedings of IEEE/ACM design automation conference, 2005 Chang H, Zolotov V, Narayan S, Visweswariah C (2005) Parameterized block-based statistical timing analysis with non-Gaussian parameters, nonlinear delay functions. In: Proceedings of IEEE/ACM design automation conference, 2005
6.
Zurück zum Zitat Hane M, Ikezawa T, Ezaki T (2003) Atomistic 3D process/device simulation considering gate line-edge roughness and poly-Si random crystal orientation effects. In: Proceedings of IEEE international electron devices meeting, 2003 Hane M, Ikezawa T, Ezaki T (2003) Atomistic 3D process/device simulation considering gate line-edge roughness and poly-Si random crystal orientation effects. In: Proceedings of IEEE international electron devices meeting, 2003
7.
Zurück zum Zitat Ezaki T, Izekawa T, Hane M (2002) Investigation of random dopant fluctuation induced device characteristics variation for sub-100 nm CMOS by using atomistic 3D process/device simulator. In: Proceedings of IEEE international electron devices meeting, 2002 Ezaki T, Izekawa T, Hane M (2002) Investigation of random dopant fluctuation induced device characteristics variation for sub-100 nm CMOS by using atomistic 3D process/device simulator. In: Proceedings of IEEE international electron devices meeting, 2002
Metadaten
Titel
Introduction
verfasst von
Amith Singhee
Copyright-Jahr
2010
Verlag
Springer US
DOI
https://doi.org/10.1007/978-1-4419-6606-3_1

Neuer Inhalt