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Investigation of the Electrical Parameters in a Partially Extended Ge-Source Double-Gate Tunnel Field-Effect Transistor (DG-TFET)

  • 26.03.2024
  • Original Research Article
Erschienen in:

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Abstract

Der Artikel untersucht die elektrischen Parameter eines teilweise erweiterten Ge-Source Double-Gate Tunnel Field-Effect Transistor (PEGeDG-TFET) unter dem Einfluss von Grenzflächenladungen (ITCs) und Temperaturschwankungen. Die Studie konzentriert sich auf die Zuverlässigkeit und Leistung des Geräts für Analog- / HF- und Linearitätsmetriken, um seine Eignung für Anwendungen zu gewährleisten, die konstante Leistung erfordern. Die Autoren verwenden ein kalibriertes TCAD-Simulationsrahmen, um die Eigenschaften des Geräts zu analysieren, einschließlich Abflussstrom, Transleitfähigkeit und Kapazität. Außerdem untersuchen sie den Einfluss von Geräteparametern wie Ablaufdotierung, Torlänge und Oxiddicke auf die Leistung des Geräts. Die Ergebnisse unterstreichen das Potenzial des PEGeDG-TFET für Hochgeschwindigkeits- und Low-Power-Anwendungen, während gleichzeitig die Herausforderungen durch ITCs und Temperaturschwankungen angegangen werden.

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Titel
Investigation of the Electrical Parameters in a Partially Extended Ge-Source Double-Gate Tunnel Field-Effect Transistor (DG-TFET)
Verfasst von
Omendra Kr Singh
Vaithiyanathan Dhandapani
Baljit Kaur
Publikationsdatum
26.03.2024
Verlag
Springer US
Erschienen in
Journal of Electronic Materials / Ausgabe 6/2024
Print ISSN: 0361-5235
Elektronische ISSN: 1543-186X
DOI
https://doi.org/10.1007/s11664-024-10997-y
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