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Erschienen in: Journal of Materials Science: Materials in Electronics 1/2019

27.10.2018

Investigation of the properties of nanostructured nickel oxide NiO thin films irradiated at different γ-doses

verfasst von: Faycal Chandoul, Hatem Moussa, Karima Jouini, Abdelwaheb Boukhachem, Faouzi Hosni, Mohamed Slim Fayache, Raphaël Schneider

Erschienen in: Journal of Materials Science: Materials in Electronics | Ausgabe 1/2019

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Abstract

Nanostructured thin films of Nickel oxide NiO were synthesized using spray coating method. The samples were irradiated at different γ-doses by Co-60 radioisotope. The obtained films were studied using X-ray diffraction (XRD), scanning electron microscopy, UV–visible spectrophotometry, Raman spectroscopy, photoluminescence (PL) spectroscopy and FT-IR. The experimental results demonstrated that the irradiation of NiO led to significant changes. XRD and Raman spectroscopy demonstrate that the as-deposited NiO samples show a cubic structure with (111) preferred orientation common at all gamma radiation doses. The optical energy gaps of the samples were found to decrease when increasing the γ ray dose, the Eg value decreases from 3.84 eV for as deposited NiO thin film to 3.60 eV for sample irradiated at 50 kGy. Scanning electron microscope (SEM) image of sprayed NiO films shows the high porosity and the presence of microcavities in surface of films.

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Metadaten
Titel
Investigation of the properties of nanostructured nickel oxide NiO thin films irradiated at different γ-doses
verfasst von
Faycal Chandoul
Hatem Moussa
Karima Jouini
Abdelwaheb Boukhachem
Faouzi Hosni
Mohamed Slim Fayache
Raphaël Schneider
Publikationsdatum
27.10.2018
Verlag
Springer US
Erschienen in
Journal of Materials Science: Materials in Electronics / Ausgabe 1/2019
Print ISSN: 0957-4522
Elektronische ISSN: 1573-482X
DOI
https://doi.org/10.1007/s10854-018-0299-z

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