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Erschienen in:
Synthesis of Two-Dimensional Hexagonal Boron Nitride Kapitel lesen Erstes Kapitel lesen

2018 | OriginalPaper | Buchkapitel

7. A New Single-Source Precursor for Monolayer h-BN and h-BCN Thin Films

verfasst von : Roland Yingjie Tay

Erschienen in: Chemical Vapor Deposition Growth and Characterization of Two-Dimensional Hexagonal Boron Nitride

Verlag: Springer Singapore

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Abstract

Motivated by industrialization and the need for manufacturability, a variety of synthesis techniques to achieve atomically thin h-BN films over large distances have been explored such as chemical vapor deposition (CVD) [1‐6], surface segregation method or solid source diffusion [7‐10], ion-beam sputtering deposition (IBSD) [11], pulsed-laser deposition (PLD) [12, 13], reactive magnetron sputtering [14] and molecular beam epitaxy (MBE) [15].

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Metadaten
Titel
A New Single-Source Precursor for Monolayer h-BN and h-BCN Thin Films
verfasst von
Roland Yingjie Tay
Copyright-Jahr
2018
Verlag
Springer Singapore
Buch
Chemical Vapor Deposition Growth and Characterization of Two-Dimensional Hexagonal Boron Nitride

Print ISBN: 978-981-10-8808-7

Electronic ISBN: 978-981-10-8809-4

Copyright-Jahr: 2018

DOI
https://doi.org/10.1007/978-981-10-8809-4_7

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