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Erschienen in: Journal of Materials Science 18/2008

01.09.2008

Effect of chelating agents on the preferred orientation of ZnO films by sol-gel process

verfasst von: Sang Hoon Yoon, Dan Liu, Dongna Shen, Minseo Park, Dong-Joo Kim

Erschienen in: Journal of Materials Science | Ausgabe 18/2008

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Abstract

The effect of chelating agents of ZnO precursor solutions on crystallization behavior was investigated. Two different additives, monoethanolamine (MEA) and diethanolamine (DEA), and crystalline Pt (111)/Si and amorphous SiNx/Si substrates, were used for this study. ZnO film grown on SiNx/Si from a DEA-chelated precursor solution shows a poorly oriented microstructure with weak crystallization peaks, while ZnO film grown on Pt(111)/Si shows a c-axis preferred orientation. In the case of ZnO films prepared with a MEA-chelated precursor solution, all films show a strong preferred orientation irrespective of substrate type. This result clearly demonstrates the role of the chelating agent on the crystallographic orientation and crystallization behavior of sol-gel processed ZnO films.

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Literatur
12.
Metadaten
Titel
Effect of chelating agents on the preferred orientation of ZnO films by sol-gel process
verfasst von
Sang Hoon Yoon
Dan Liu
Dongna Shen
Minseo Park
Dong-Joo Kim
Publikationsdatum
01.09.2008
Verlag
Springer US
Erschienen in
Journal of Materials Science / Ausgabe 18/2008
Print ISSN: 0022-2461
Elektronische ISSN: 1573-4803
DOI
https://doi.org/10.1007/s10853-008-2929-y

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