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Erschienen in: Journal of Materials Science 23/2013

01.12.2013

Preparation of porous glass films using phase separation phenomenon and growth behavior of phase-separated structure

verfasst von: C. Hwang, J. Kim, Bong Ki Ryu, H. Takebe

Erschienen in: Journal of Materials Science | Ausgabe 23/2013

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Abstract

We report the preparation of porous glass films on transparent conductive oxide-coated glass substrates using the phase separation phenomena and the growth behavior of the phase-separated structure. We confirmed that the etched glass films are composed of microscale pores, a three-dimensional porous framework of SiO2-rich phase with widths of about 40–300 nm, and a thin surface layer of about 40–90 nm thick. The SiO2-rich phase grew by diffusion-dominated growth and then viscous flow-dominated growth.

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Metadaten
Titel
Preparation of porous glass films using phase separation phenomenon and growth behavior of phase-separated structure
verfasst von
C. Hwang
J. Kim
Bong Ki Ryu
H. Takebe
Publikationsdatum
01.12.2013
Verlag
Springer US
Erschienen in
Journal of Materials Science / Ausgabe 23/2013
Print ISSN: 0022-2461
Elektronische ISSN: 1573-4803
DOI
https://doi.org/10.1007/s10853-013-7618-9

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