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Erschienen in: Journal of Materials Science: Materials in Electronics 1/2009

01.01.2009

Lucky-drift model for impact ionization in amorphous semiconductors

verfasst von: K. Jandieri, O. Rubel, S. D. Baranovskii, A. Reznik, J. A. Rowlands, S. O. Kasap

Erschienen in: Journal of Materials Science: Materials in Electronics | Sonderheft 1/2009

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Abstract

A lucky-drift model for impact ionization has been recently successfully used to account for avalanche phenomenon in amorphous selenium (a-Se). We extend the calculations in order to compare the effect in a-Se with possible impact ionization phenomenon in another prototype amorphous semiconductor: hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H). The results suggest that the higher phonon energy in a-Si:H as compared to a-Se shifts the threshold field for impact ionization in a-Si:H to essentially higher fields than those needed for avalanche multiplication in a-Se. Furthermore, it has been recently suggested that impact ionization is a precursor of the switching effect in the phase-change-memory materials (Ge2Sb2Te5). We apply the lucky-drift model to Ge2Sb2Te5 and show that it is capable to account for the magnitude of the electric field necessary to launch the electronic switching in this material.

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Metadaten
Titel
Lucky-drift model for impact ionization in amorphous semiconductors
verfasst von
K. Jandieri
O. Rubel
S. D. Baranovskii
A. Reznik
J. A. Rowlands
S. O. Kasap
Publikationsdatum
01.01.2009
Verlag
Springer US
Erschienen in
Journal of Materials Science: Materials in Electronics / Ausgabe Sonderheft 1/2009
Print ISSN: 0957-4522
Elektronische ISSN: 1573-482X
DOI
https://doi.org/10.1007/s10854-007-9549-1

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