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Erschienen in: Journal of Materials Science: Materials in Electronics 4/2009

01.04.2009

Effect of thermal annealing on properties of zinc selenide thin films deposited by chemical bath deposition

verfasst von: P. P. Hankare, P. A. Chate, D. J. Sathe, P. A. Chavan, V. M. Bhuse

Erschienen in: Journal of Materials Science: Materials in Electronics | Ausgabe 4/2009

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Abstract

Zinc selenide films have been deposited on glass substrate by chemical bath deposition method. The resultant films were annealed up to 473 K temperature. The structural properties of zinc selenide thin films have been investigated by X-ray diffraction techniques. The X-ray diffraction spectra showed that zinc selenide thin films are polycrystalline and have a cubic structure. The most preferential orientation is along the (111) direction for all films. The lattice parameter, grain size, and microstrain were calculated and correlated with annealing temperature. The optical properties showed direct band gap values were found to be in the region of 2.69–2.81 eV. The electrical studies shows conductivity increases with increase in annealing temperature. The optoelectric and structural data are discussed from the point of applications based on achieving high performance devices.

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Literatur
3.
Zurück zum Zitat E. Krause, H. Hartmann, J. Meninger, A. Hoffmann, R. Heitz, B. Lummer, V. Kutzev, I. Broser, Cryst. Growth 138, 75 (1994)CrossRefADS E. Krause, H. Hartmann, J. Meninger, A. Hoffmann, R. Heitz, B. Lummer, V. Kutzev, I. Broser, Cryst. Growth 138, 75 (1994)CrossRefADS
4.
Zurück zum Zitat A.P. Samantilleke, I.M. Dharmadasa, K.A. Prior, K.L. Choy, J. Mei, R. Bacewicz, A. Wolska, J. Mater. Sci.: Mater. Electron. 12, 661 (2001)CrossRef A.P. Samantilleke, I.M. Dharmadasa, K.A. Prior, K.L. Choy, J. Mei, R. Bacewicz, A. Wolska, J. Mater. Sci.: Mater. Electron. 12, 661 (2001)CrossRef
7.
Zurück zum Zitat C.D. Lokhande, P.S. Patil, H. Tribustch, A. Ennaoui, Sol. Ener. Mater. Sol. Cells 55, 379 (1998)CrossRef C.D. Lokhande, P.S. Patil, H. Tribustch, A. Ennaoui, Sol. Ener. Mater. Sol. Cells 55, 379 (1998)CrossRef
8.
9.
Zurück zum Zitat K.C. Sharma, R.P. Sharma, J.C. Garg, Ind. J. Pure Appl. Phys. 28, 539 (1990) K.C. Sharma, R.P. Sharma, J.C. Garg, Ind. J. Pure Appl. Phys. 28, 539 (1990)
10.
Zurück zum Zitat G.N. Chaudhari, S.N. Sardesai, S.D. Sathe, V.J. Rao, J. Mater. Sci. 27, 4647 (1992)CrossRef G.N. Chaudhari, S.N. Sardesai, S.D. Sathe, V.J. Rao, J. Mater. Sci. 27, 4647 (1992)CrossRef
11.
14.
Zurück zum Zitat M.J. Kim, H.S. Lee, J.Y. Lee, T.W. Kim, K.H. Yoo, M.D. Kim, J. Mater. Sci. 39, 323 (2004)CrossRef M.J. Kim, H.S. Lee, J.Y. Lee, T.W. Kim, K.H. Yoo, M.D. Kim, J. Mater. Sci. 39, 323 (2004)CrossRef
15.
Zurück zum Zitat S.M. Sze, VLSI Technology (McGraw-Hill, New York, 1988) S.M. Sze, VLSI Technology (McGraw-Hill, New York, 1988)
16.
Zurück zum Zitat P.P. Hankare, P.A. Chate, S.D. Delekar, V.M. Bhuse, M.R. Asabe, B.V. Jadhav, K.M. Garadkar, Cryst. Growth 291, 40 (2006)CrossRefADS P.P. Hankare, P.A. Chate, S.D. Delekar, V.M. Bhuse, M.R. Asabe, B.V. Jadhav, K.M. Garadkar, Cryst. Growth 291, 40 (2006)CrossRefADS
17.
Zurück zum Zitat P.P. Hankare, P.A. Chate, M.R. Asabe, S.D. Delekar, I.S. Mulla, K.M. Garadkar, J. Mater. Sci.: Mater. Electron. 17, 1055 (2006)CrossRef P.P. Hankare, P.A. Chate, M.R. Asabe, S.D. Delekar, I.S. Mulla, K.M. Garadkar, J. Mater. Sci.: Mater. Electron. 17, 1055 (2006)CrossRef
18.
Zurück zum Zitat F.A. Kroger, The Chemistry of Imperfect Crystals (North Holland, Amsterdam, 1964) F.A. Kroger, The Chemistry of Imperfect Crystals (North Holland, Amsterdam, 1964)
20.
Zurück zum Zitat P.P. Hankare, S.D. Delekar, P.A. Chate, S.D. Sabane, K.M. Garadkar, V.M. Bhuse, Semicond. Sci. Technol. 20, 257 (2005)CrossRefADS P.P. Hankare, S.D. Delekar, P.A. Chate, S.D. Sabane, K.M. Garadkar, V.M. Bhuse, Semicond. Sci. Technol. 20, 257 (2005)CrossRefADS
21.
Zurück zum Zitat Z. Junjie, L.X. Chang, J. Wang, H.Y. Chen, Mater. Res. Bull. 36, 1169 (2001)CrossRef Z. Junjie, L.X. Chang, J. Wang, H.Y. Chen, Mater. Res. Bull. 36, 1169 (2001)CrossRef
22.
Zurück zum Zitat J. Krustok, P.E. Kukk, Mater. Sci. 25, 43 (1989) J. Krustok, P.E. Kukk, Mater. Sci. 25, 43 (1989)
23.
Zurück zum Zitat K.L. Chopra, Thin Film Phenomenon (McGraw- Hill, New York, 1969) K.L. Chopra, Thin Film Phenomenon (McGraw- Hill, New York, 1969)
24.
Metadaten
Titel
Effect of thermal annealing on properties of zinc selenide thin films deposited by chemical bath deposition
verfasst von
P. P. Hankare
P. A. Chate
D. J. Sathe
P. A. Chavan
V. M. Bhuse
Publikationsdatum
01.04.2009
Verlag
Springer US
Erschienen in
Journal of Materials Science: Materials in Electronics / Ausgabe 4/2009
Print ISSN: 0957-4522
Elektronische ISSN: 1573-482X
DOI
https://doi.org/10.1007/s10854-008-9736-8

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