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Erschienen in: Journal of Materials Science: Materials in Electronics 9/2011

01.09.2011

Preparation of nanocrystalline Cu2O thin film by pulsed laser deposition

verfasst von: Muslem F. Jawad, Raid A. Ismail, Khaled Z. Yahea

Erschienen in: Journal of Materials Science: Materials in Electronics | Ausgabe 9/2011

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Abstract

In this paper, the synthesis of nanocrystalline copper oxides Cu2O and CuO thin films on glass substrates using a pulsed 532 nm Nd:YAG laser is presented. Deposition of films is achieved at two different substrate temperatures. The influence of substrate temperature on the structural and optical properties of copper oxide films are discussed and analyzed. The X-ray diffraction (XRD) results show that the deposited films are crystalline in nature. Films prepared at 300 °C substrate temperature were Cu2O and has (111) and (200) diffracted peaks, while films grown at 500 °C were CuO and has (111) and (020) planes. The morphology of deposited films were characterized by scanning electron microscope (SEM) and atomic force microscope (AFM). The optical energy gap of Cu2O and CuO films have been determined and found to be 2.04 and 1.35 eV respectively.

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Metadaten
Titel
Preparation of nanocrystalline Cu2O thin film by pulsed laser deposition
verfasst von
Muslem F. Jawad
Raid A. Ismail
Khaled Z. Yahea
Publikationsdatum
01.09.2011
Verlag
Springer US
Erschienen in
Journal of Materials Science: Materials in Electronics / Ausgabe 9/2011
Print ISSN: 0957-4522
Elektronische ISSN: 1573-482X
DOI
https://doi.org/10.1007/s10854-011-0294-0

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