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01.11.2017 | XXI International Symposium “Nanophysics and Nanoelectronics”, Nizhny Novgorod, March 13–16, 2017 | Ausgabe 11/2017

Semiconductors 11/2017

Low-temperature deposition of SiN x Films in SiH4/Ar + N2 inductively coupled plasma under high silane dilution with argon

Zeitschrift:
Semiconductors > Ausgabe 11/2017
Autoren:
A. I. Okhapkin, S. A. Korolyov, P. A. Yunin, M. N. Drozdov, S. A. Kraev, O. I. Khrykin, V. I. Shashkin

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