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Colloid and Polymer Science
Erschienen in: Colloid and Polymer Science 2/2008

01.02.2008 | Short Communication

Microstructured reaction areas for the deposition of silica

verfasst von: Olaf Helmecke, Alexander Hirsch, Peter Behrens, Henning Menzel

Erschienen in: Colloid and Polymer Science | Ausgabe 2/2008

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Abstract

Patterned films with hexagonal structures were prepared by photochemical grafting of hydrophobic poly(acrylic acid 2-ethyl-hexylester) (PEHAA) as barrier and poly(ethylene imine) (PEI) as reaction area. The films have been characterized by ellipsometry, contact angle measurements, and scanning electron microscopy (SEM). These patterned films have been used in silica mineralization experiments by dipping them into a silica precursor solution. Silica deposition occurs only in PEI-coated areas, resulting in regular arrays of lens-shaped silica particles. The deposited silica was investigated by SEM and atomic force microscopy (AFM).
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Metadaten
Titel
Microstructured reaction areas for the deposition of silica
verfasst von
Olaf Helmecke
Alexander Hirsch
Peter Behrens
Henning Menzel
Publikationsdatum
01.02.2008
Verlag
Springer-Verlag
Erschienen in
Colloid and Polymer Science / Ausgabe 2/2008
Print ISSN: 0303-402X
Elektronische ISSN: 1435-1536
DOI
https://doi.org/10.1007/s00396-007-1773-y

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