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01.02.2008 | Short Communication | Ausgabe 2/2008

Colloid and Polymer Science 2/2008

Microstructured reaction areas for the deposition of silica

Zeitschrift:
Colloid and Polymer Science > Ausgabe 2/2008
Autoren:
Olaf Helmecke, Alexander Hirsch, Peter Behrens, Henning Menzel
Wichtige Hinweise

Electronic supplementary material

The online version of this article (doi:10.​1007/​s00396-007-1773-y) contains supplementary material, which is available to authorized users.

Abstract

Patterned films with hexagonal structures were prepared by photochemical grafting of hydrophobic poly(acrylic acid 2-ethyl-hexylester) (PEHAA) as barrier and poly(ethylene imine) (PEI) as reaction area. The films have been characterized by ellipsometry, contact angle measurements, and scanning electron microscopy (SEM). These patterned films have been used in silica mineralization experiments by dipping them into a silica precursor solution. Silica deposition occurs only in PEI-coated areas, resulting in regular arrays of lens-shaped silica particles. The deposited silica was investigated by SEM and atomic force microscopy (AFM).

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