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01.04.2015 | Technical Paper | Ausgabe 8/2016

Microsystem Technologies 8/2016

Modelling and simulation of forming process of the lithographically fabricated out-of-plane microlens using a cellular automata method

Zeitschrift:
Microsystem Technologies > Ausgabe 8/2016
Autoren:
Zhengyu Miao, Wanjun Wang

Abstract

Three dimensional (3D) cellular automata (CA) model has been successfully applied in photoresist etching simulation in recent years. In this paper, a simplified 3D CA model is used to simulate the etching process of out-of-plane microlens fabricated on thick SU-8 photoresist. The simulation results are compared with experimental results. This CA model can be developed as a computer-aided design tool to predict the optimum process parameters during the forming of lithographically fabricated microlens.

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