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2016 | Supplement | Buchkapitel

Optimising Copying Accuracy in Holographic Patterning

verfasst von : Dana Mackey, Paul O’Reilly, Izabela Naydenova

Erschienen in: Progress in Industrial Mathematics at ECMI 2014

Verlag: Springer International Publishing

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Abstract

We propose a partial differential equations model for the formation and evolution of a holographic grating in a photopolymer system and use perturbation methods and numerical simulations in order to investigate the dynamical mechanism by which distortions of the illumination pattern arise during recording. The parameters of interest are diffusion and photopolymerization rates as well as exposure time, for which we seek to determine regimes which allow for high fidelity copying.

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Literatur
1.
Zurück zum Zitat Babeva, T., Naydenova, I., Mackey, D., Martin, S., Toal, V.: Two-way diffusion model for short exposure holographic grating, formation in acrylamide based photopolymers. J. Opt. Soc. Am. B 27(2), 197–203 (2010)CrossRef Babeva, T., Naydenova, I., Mackey, D., Martin, S., Toal, V.: Two-way diffusion model for short exposure holographic grating, formation in acrylamide based photopolymers. J. Opt. Soc. Am. B 27(2), 197–203 (2010)CrossRef
2.
Zurück zum Zitat Mackey, D., Babeva, T., Naydenova, I., Toal, V., Babeva, T., Naydenova, I., Toal, V.: A diffusion model for spatially dependent photopolymerization. In: Fitt, A.D., Norbury, J., Ockendon, H., Wilson, E. (eds.) Progress in Industrial Mathematics at ECMI 2008. Mathematics in Industry, vol. 15, pp. 253–259. Springer, Berlin, Heidelberg, New York (2010)CrossRef Mackey, D., Babeva, T., Naydenova, I., Toal, V., Babeva, T., Naydenova, I., Toal, V.: A diffusion model for spatially dependent photopolymerization. In: Fitt, A.D., Norbury, J., Ockendon, H., Wilson, E. (eds.) Progress in Industrial Mathematics at ECMI 2008. Mathematics in Industry, vol. 15, pp. 253–259. Springer, Berlin, Heidelberg, New York (2010)CrossRef
3.
Zurück zum Zitat Martin, S., Naydenova, I., Jallapuram, R., Howard, R., Toal, V.: Two-way diffusion model for the recording mechanism in a self developing dry acrylamide photopolymer. Proc. SPIE 6252, 62525–625217 (2006) Martin, S., Naydenova, I., Jallapuram, R., Howard, R., Toal, V.: Two-way diffusion model for the recording mechanism in a self developing dry acrylamide photopolymer. Proc. SPIE 6252, 62525–625217 (2006)
4.
Zurück zum Zitat Naydenova, I., Jallapuram, R., Howard, R., Martin, S., Toal, V.: Investigation of the diffusion processes in a self-processing acrylamide-based photopolymer system. Appl. Opt. 43, 2900–2905 (2004)CrossRef Naydenova, I., Jallapuram, R., Howard, R., Martin, S., Toal, V.: Investigation of the diffusion processes in a self-processing acrylamide-based photopolymer system. Appl. Opt. 43, 2900–2905 (2004)CrossRef
5.
Zurück zum Zitat Zhao, G., Mouroulis, P.: Diffusion model of hologram formation in dry photopolymer materials. J. Mod. Opt. 41, 1929–1939 (1994)CrossRef Zhao, G., Mouroulis, P.: Diffusion model of hologram formation in dry photopolymer materials. J. Mod. Opt. 41, 1929–1939 (1994)CrossRef
Metadaten
Titel
Optimising Copying Accuracy in Holographic Patterning
verfasst von
Dana Mackey
Paul O’Reilly
Izabela Naydenova
Copyright-Jahr
2016
DOI
https://doi.org/10.1007/978-3-319-23413-7_38