01.06.2015
Optimization and modelling of preparation conditions of CuS thin films deposited by successive ionic layer adsorption and reaction (SILAR) method using response surface methodology
Erschienen in: Journal of Materials Science: Materials in Electronics | Ausgabe 6/2015
EinloggenAktivieren Sie unsere intelligente Suche um passende Fachinhalte oder Patente zu finden.
Wählen Sie Textabschnitte aus um mit Künstlicher Intelligenz passenden Patente zu finden. powered by
Markieren Sie Textabschnitte, um KI-gestützt weitere passende Inhalte zu finden. powered by