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Origin of the Band Gap Reduction of In-Doped β-Ga2O3

  • 16.04.2021
  • Original Research Article
Erschienen in:

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Abstract

Der Artikel untersucht die strukturellen Eigenschaften und Mechanismen zur Reduzierung von Bandlücken von In-dotiertem β-Ga2O3, einem kritischen Breitband-Lückenmaterial in der Halbleiterindustrie. Unter Anwendung der GGA + U-Methode identifiziert die Studie die stabilsten Strukturkonfigurationen und klärt die Auswirkungen von In-Doping auf die Bandlücke des Materials. Die Forschung zeigt, dass die Verringerung der Bandlücke in erster Linie durch strukturelle Deformationen bedingt ist, wobei auch Beiträge aus dem Ladungsaustausch und der strukturellen Entspannung eine Rolle spielen. Die Ergebnisse haben erhebliche Auswirkungen auf das Design und die Optimierung hochleistungsfähiger optoelektronischer Bauelemente unter Verwendung von β-Ga2O3.

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Titel
Origin of the Band Gap Reduction of In-Doped β-Ga2O3
Verfasst von
Wei He
Zhaoxiong Wang
Tao Zheng
Liyun Wang
Shuwen Zheng
Publikationsdatum
16.04.2021
Verlag
Springer US
Erschienen in
Journal of Electronic Materials / Ausgabe 7/2021
Print ISSN: 0361-5235
Elektronische ISSN: 1543-186X
DOI
https://doi.org/10.1007/s11664-021-08899-4
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