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Erschienen in: Polymer Science, Series A 4/2013

01.04.2013 | Polymer Gels

Photosensitive acrylate copolymer for electrodeposition photoresist

verfasst von: Ren Liu, Fenlei An, Shengwen Zhang, Jing Luo, Xiaoya Liu

Erschienen in: Polymer Science, Series A | Ausgabe 4/2013

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Metadaten
Titel
Photosensitive acrylate copolymer for electrodeposition photoresist
verfasst von
Ren Liu
Fenlei An
Shengwen Zhang
Jing Luo
Xiaoya Liu
Publikationsdatum
01.04.2013
Verlag
SP MAIK Nauka/Interperiodica
Erschienen in
Polymer Science, Series A / Ausgabe 4/2013
Print ISSN: 0965-545X
Elektronische ISSN: 1555-6107
DOI
https://doi.org/10.1134/S0965545X13040093

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