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2018 | OriginalPaper | Buchkapitel

6. Reinraumanlagen für Mikroelektronik und Pharma

verfasst von : Manfred Renz

Erschienen in: Reinraumtechnik

Verlag: Springer Berlin Heidelberg

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Zusammenfassung

Zu den reinraumtechnischen Anlagen zählen insbesondere alle Systeme zur Luftaufbereitung und -förderung, wie
• Außenluftsysteme,
• Umluftsysteme,
• Fortluftsysteme.

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Fußnoten
1
Wertvolle Anregungen und Unterstützung bei der Gestaltung dieses Abschnitts durch M. Aust, M+W Central Europe GmbH Stuttgart
 
Literatur
[1]
Zurück zum Zitat Renz, M., Honold, A.: Saving energy with advanced cleanroom air recirculation system. Semiconductor Fabtech, 2. Aufl., S. 89–93. ICG Publishing, London (1995) Renz, M., Honold, A.: Saving energy with advanced cleanroom air recirculation system. Semiconductor Fabtech, 2. Aufl., S. 89–93. ICG Publishing, London (1995)
[2]
Zurück zum Zitat Williamson, M.C.: Energy efficiency in semiconductor manufacturing: a tool for cost savings and pollution prevention. Semiconductor Fabtech, 8. Aufl., S. 77–82. ICG Publishing, London (1998) Williamson, M.C.: Energy efficiency in semiconductor manufacturing: a tool for cost savings and pollution prevention. Semiconductor Fabtech, 8. Aufl., S. 77–82. ICG Publishing, London (1998)
[3]
Zurück zum Zitat DIN EN ISO 14644–4 Reinräume und zugehörige Reinraumbereiche Teil 4: Planung, Ausführung und Erst-Inbetriebnahme. Beuth, Berlin (2003) DIN EN ISO 14644–4 Reinräume und zugehörige Reinraumbereiche Teil 4: Planung, Ausführung und Erst-Inbetriebnahme. Beuth, Berlin (2003)
[4]
Zurück zum Zitat VDI 2083, Blatt 4.1: 2006-10: Reinraumtechnik - Planung, Bau und Erst-Inbetriebnahme von Reinräumen. Beuth, Berlin (2006) VDI 2083, Blatt 4.1: 2006-10: Reinraumtechnik - Planung, Bau und Erst-Inbetriebnahme von Reinräumen. Beuth, Berlin (2006)
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Zurück zum Zitat Shu, C.Y. et al.: Advanced integrated circuit manufacturing plant utilizing a controlled micro-environment. Semicon Europa Technical Conference 6.3.91:178 (1991) Shu, C.Y. et al.: Advanced integrated circuit manufacturing plant utilizing a controlled micro-environment. Semicon Europa Technical Conference 6.3.91:178 (1991)
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Zurück zum Zitat Csatary, P., Kümmerle, K.: 300 mm Fab Conversions & the Chemisperical Challenge–A Model Case Study; Fabtech 17. ICG Publishing, London (2002) Csatary, P., Kümmerle, K.: 300 mm Fab Conversions & the Chemisperical Challenge–A Model Case Study; Fabtech 17. ICG Publishing, London (2002)
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Zurück zum Zitat Gräber, H., Tegtmeyer, G.: Siemens’ NTS Facility: A World First; Future Fab International, 3. Aufl., S. 107–114. Technology Publishing, London (1997) Gräber, H., Tegtmeyer, G.: Siemens’ NTS Facility: A World First; Future Fab International, 3. Aufl., S. 107–114. Technology Publishing, London (1997)
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Zurück zum Zitat McIntosh, S.: MOS4You–A Record Breaking Fab; Future Fab International, 3. Aufl., S. 123–128. Technology Publishing, London (1997) McIntosh, S.: MOS4You–A Record Breaking Fab; Future Fab International, 3. Aufl., S. 123–128. Technology Publishing, London (1997)
[10]
Zurück zum Zitat Renz, M., et al.: Advances in cleanroom air management systems. European Contamination Control Conference. München (1999) Renz, M., et al.: Advances in cleanroom air management systems. European Contamination Control Conference. München (1999)
Metadaten
Titel
Reinraumanlagen für Mikroelektronik und Pharma
verfasst von
Manfred Renz
Copyright-Jahr
2018
Verlag
Springer Berlin Heidelberg
DOI
https://doi.org/10.1007/978-3-662-54915-5_6

    Marktübersichten

    Die im Laufe eines Jahres in der „adhäsion“ veröffentlichten Marktübersichten helfen Anwendern verschiedenster Branchen, sich einen gezielten Überblick über Lieferantenangebote zu verschaffen.