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Metallurgical and Materials Transactions A
Erschienen in: Metallurgical and Materials Transactions A 4/2016

12.01.2016

Resputtering Effect on Nanocrystalline Ni-Ti Alloy Films

verfasst von: B. Geetha Priydarshini, N. Esakkiraja, Shampa Aich, M. Chakraborty

Erschienen in: Metallurgical and Materials Transactions A | Ausgabe 4/2016

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Abstract

We report on the effect of resputtering on the properties of nanocrystalline Ni-Ti alloy thin films deposited using co-sputtering of Ni and Ti targets. In order to facilitate the formation of nanocrystalline phases, films were deposited at room temperature and 573 K (300 °C) with substrate bias voltage of −100 V. The influence of substrate material on the composition, surface topography microstructure, and phase formations of nanocrystalline Ni-Ti thin films was also systematically investigated. The preferential resputtering of Ti adatoms was lesser for Ni-Ti films deposited on quartz substrate owing to high surface roughness of 4.87 nm compared to roughness value of 1.27 nm for Si(100) substrate.
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Metadaten
Titel
Resputtering Effect on Nanocrystalline Ni-Ti Alloy Films
verfasst von
B. Geetha Priydarshini
N. Esakkiraja
Shampa Aich
M. Chakraborty
Publikationsdatum
12.01.2016
Verlag
Springer US
Erschienen in
Metallurgical and Materials Transactions A / Ausgabe 4/2016
Print ISSN: 1073-5623
Elektronische ISSN: 1543-1940
DOI
https://doi.org/10.1007/s11661-015-3319-0

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