01.07.2013 | Physical Science of Materials
Role of argon in its mixture with nitrogen in deposition of nitride condensates in the Ti-Si-N system and in vacuum arc deposition processes
Erschienen in: Technical Physics | Ausgabe 7/2013
EinloggenAktivieren Sie unsere intelligente Suche, um passende Fachinhalte oder Patente zu finden.
Wählen Sie Textabschnitte aus um mit Künstlicher Intelligenz passenden Patente zu finden. powered by
Markieren Sie Textabschnitte, um KI-gestützt weitere passende Inhalte zu finden. powered by