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Single-electron transistor: review in perspective of theory, modelling, design and fabrication

  • 03.09.2020
  • Review Paper
Erschienen in:

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Abstract

Die Technologie integrierter Schaltungen (IC) ist in den letzten Jahrzehnten enorm gewachsen. Das Hauptziel war es, bei Logik- und Speicherbauteilen mit minimalem Platzbedarf eine niedrige Leistung und hohe Leistung zu erreichen. Dies führte zu einer kontinuierlichen Skalierung von Bauteilen und Vernetzungen über Siliziumchips. Die Skalierung der Technologie spielt eine wichtige Rolle bei der Verbesserung der IC-Leistung in Bezug auf Verzögerung, Signalintegrität und Verlustleistung. Neuartige Bauteile wie FinFET, nanoelektromechanische Systeme, Graphen-FETs und Ein-Elektronen-Transistor (SET) bieten mehrere Vorteile gegenüber verschiedenen Unzulänglichkeiten der Skalierung. Die Zukunft der IC-Industrie soll in einer heterogenen 3D-Integration verschiedener Technologien bestehen. Ein SET ist ein potenzielles Nano-Bauteil, das auf quantenmechanischen Prinzipien beruht und mit der weit verbreiteten ergänzenden Metalloxidhalbleitertechnologie (SET) kombiniert werden kann, um seine Leistung an skalierten Technologieknoten zu verbessern. Um die Machbarkeit von SET zu erforschen, wurde eine umfangreiche Literaturüberprüfung durchgeführt, die auf der Grundlage der SET-Literatur basiert, die umfassende Forschungstheorie zur Erstellung von SET-Halbleiterbauelementen für den Betrieb umfasst.

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Titel
Single-electron transistor: review in perspective of theory, modelling, design and fabrication
Verfasst von
Rashmit Patel
Yash Agrawal
Rutu Parekh
Publikationsdatum
03.09.2020
Verlag
Springer Berlin Heidelberg
Erschienen in
Microsystem Technologies / Ausgabe 5/2021
Print ISSN: 0946-7076
Elektronische ISSN: 1432-1858
DOI
https://doi.org/10.1007/s00542-020-05002-5
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