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2010 | OriginalPaper | Buchkapitel

15. Photoresists

verfasst von : Fumitaka Saimura, Michael Santorelli

Erschienen in: Phenolic Resins: A Century of Progress

Verlag: Springer Berlin Heidelberg

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Abstract

Lithographic technology by photoresist is an important technique for today’s electronic industries. In the manufacture of a semiconductor and a liquid crystal display (LCD), a photoresist is used as the key photo sensitive material. Phenolic resin is the base polymer that controls photoresist characteristics and plays an active role in these vital electronic industries.
In this chapter, we discuss phenolic resins for photoresists, meta–para cresol novolaks, important properties for photoresist such as meta–para ratio, molecular weight, and alkali dissolution rate. Moreover, various types of phenolic resins for photoresists and production technology are also discussed.

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Metadaten
Titel
Photoresists
verfasst von
Fumitaka Saimura
Michael Santorelli
Copyright-Jahr
2010
Verlag
Springer Berlin Heidelberg
DOI
https://doi.org/10.1007/978-3-642-04714-5_15

    Marktübersichten

    Die im Laufe eines Jahres in der „adhäsion“ veröffentlichten Marktübersichten helfen Anwendern verschiedenster Branchen, sich einen gezielten Überblick über Lieferantenangebote zu verschaffen.