2006 | OriginalPaper | Buchkapitel
Two-Dimensional Patterns in High Frequency Plasma Discharges
verfasst von : D. Mackey, M.M. Turner
Erschienen in: Progress in Industrial Mathematics at ECMI 2004
Verlag: Springer Berlin Heidelberg
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Large area uniform plasmas are essential in microelectronics processing. Motivated by this application, a macroscopic model is proposed as a framework for investigating the occurrence of instabilities in high frequency plasma discharges for parallel plate geometries. This paper will concentrate on the formation of stationary, spatially inhomogeneous patterns.