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13.06.2019 | Electronic materials | Ausgabe 18/2019

Journal of Materials Science 18/2019

Two-dimensional silicon phosphide: low effective mass and direct band gap for future devices applications

Zeitschrift:
Journal of Materials Science > Ausgabe 18/2019
Autoren:
Shivam Kansara, Prabal Dev Bhuyan, Yogesh Sonvane, Sanjeev K. Gupta
Wichtige Hinweise

Electronic supplementary material

The online version of this article (https://​doi.​org/​10.​1007/​s10853-019-03753-9) contains supplementary material, which is available to authorized users.

Publisher's Note

Springer Nature remains neutral with regard to jurisdictional claims in published maps and institutional affiliations.

Abstract

The band engineering using strain and electric field of monolayer silicon phosphide (2D-SiP) has been investigated by first-principle calculation. The biaxial strain is used to tune the electronic band gap from 1.91 to 0.7 eV by applying compressive strain 0–10% and 1.91–1.0 eV by tensile strain from 0 to 12%. Furthermore, SiP shows metallic behaviour beyond 12% of compressive strain and 14% of tensile strain. However, the negligible effect of the external electric field on the electronic band structure of 2D SiP shows the sustainability of the monolayer. The stress vs strain curve shows the excellent mechanical stability of the monolayer SiP. 2D SiP also shows low electron effective mass for higher carrier mobility. Further, optical properties of the monolayer show the UV region absorption. Our results provide insights to possible mechanical tuning of SiP monolayer by applying external strain for nano-electronic and nano-optoelectronic device application.

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Zusatzmaterial
Supplementary material 1 (DOCX 2070 kb)
10853_2019_3753_MOESM1_ESM.docx
Literatur
Über diesen Artikel

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