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JOT Journal für Oberflächentechnik
Erschienen in: JOT Journal für Oberflächentechnik 10/2011

01.10.2011 | teilereinigung

Nano-Partikel im Blick

Reinigungs-Anforderungen in der Halbleiter- und Elektronikindustrie

verfasst von: Dr. Rolf Treichler, Dr. Winfried Holzapfel, Reinhard Lemme

Erschienen in: JOT Journal für Oberflächentechnik | Ausgabe 10/2011

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Auszug

Reinigungsprozesse in der Bauelement-Fertigung der Halbleiter- und Elektronikindustrie erfordern hohe Präzision und besondere Kontrollmethoden. Strenge Sauberkeitsvorgaben sichern die Qualität im Herstellungsprozess und zugleich die langfristige Stabilität der Halbleiter. Das Monitoring und die zielgenaue Identifikation von Verunreinigungen spielen dabei eine immer größere Rolle. …
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Literatur
W. Kern, K. A. Reinhardt (Ed.), Handbook of Silicon Wafer Cleaning Technology, William Andrew, Norwich, NY, 2007
T. Hattori (Ed.), Ultraclean Surface Processing of Silicon Wafers, Springer 1998
H. Oppolzer, K. Budde, H. Cerva, R. v. Criegern, F. Jahnel, R. Lemme, „Characterization Methods for Semiconductor Materials and Device Processing“ in Proc. of the Symp. on Crystalline Defects and Contamination, Electrochemical Society, Pennington, NJ, Proc. Vol 2001-29 (2001), p. 308
K. Budde, W. Holzapfel, A. Roehrig, „Measurement of Organic Contamination in Microelectronics Technology: Standardization Issues“, in Proc. of the Symp. on Crystalline Defects and Contaminations, Electrochemical Society, Pennington, NJ, Proc. Vol 97-22 (1997), p. 351
Metadaten
Titel
Nano-Partikel im Blick
Reinigungs-Anforderungen in der Halbleiter- und Elektronikindustrie
verfasst von
Dr. Rolf Treichler
Dr. Winfried Holzapfel
Reinhard Lemme
Publikationsdatum
01.10.2011
Verlag
Vieweg Verlag
Erschienen in
JOT Journal für Oberflächentechnik / Ausgabe 10/2011
Print ISSN: 0940-8789
Elektronische ISSN: 2192-869X
DOI
https://doi.org/10.1365/s35144-011-0184-5

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