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2015 | OriginalPaper | Buchkapitel

Photolithography Applied to Integrated Circuit (IC) Microfabrication

verfasst von : Lawrence E. Murr

Erschienen in: Handbook of Materials Structures, Properties, Processing and Performance

Verlag: Springer International Publishing

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Abstract

Photolithography as it relates to lithography fundamentals is described and applied to the lithography process utilized in producing integrated circuits (ICs) and layered electronic device structures. These structures have some thickness or layering restrictions but are nonetheless layer-manufactured structures on an electronic landscape, usually a silicon wafer substrate.

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Literatur
Baker RJ (2010) CMOS: circuit design, layout, and simulation, 3rd edn. Wiley/IEEE, New York
Maly W (1987) Atlas of IC technologies: an introduction to VLSI processes. Benjamin/Cummings, Menlo Park
Meade CA, Conway L (1980) Introduction to VLSI systems. Addison-Wesley, Boston
Metadaten
Titel
Photolithography Applied to Integrated Circuit (IC) Microfabrication
verfasst von
Lawrence E. Murr
Copyright-Jahr
2015
Buch
Handbook of Materials Structures, Properties, Processing and Performance

Print ISBN: 978-3-319-01814-0

Electronic ISBN: 978-3-319-01815-7

Copyright-Jahr: 2015

DOI
https://doi.org/10.1007/978-3-319-01815-7_34

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