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Published in:

01-03-1999

The Effect of Substrate Temperature on the Properties of Nanostructured Silicon Carbide Films Deposited by Hypersonic Plasma Particle Deposition

Authors: J. Blum, N. Tymiak, A. Neuman, Z. Wong, N.P. Rao, S.L. Girshick, W.W. Gerberich, P.H. McMurry, J.V.R. Heberlein

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Title: The Effect of Substrate Temperature on the Properties of Nanostructured Silicon Carbide Films Deposited by Hypersonic Plasma Particle Deposition
Authors: J. Blum
N. Tymiak
A. Neuman
Z. Wong
N.P. Rao
S.L. Girshick
W.W. Gerberich
P.H. McMurry
J.V.R. Heberlein
Publication date: 01-03-1999
Publisher: Kluwer Academic Publishers
Published in: Journal of Nanoparticle Research / Issue 1/1999
Print ISSN: 1388-0764
Electronic ISSN: 1572-896X
DOI: https://doi.org/10.1023/A:1010033413357

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