Skip to main content
Top
Published in: Journal of Electronic Materials 2/2018

01-12-2017

Temperature Coefficients of Electrical Conductivity and Conduction Mechanisms in Butyl Rubber-Carbon Black Composites

Authors: M. A. Alzamil, K. Alfaramawi, S. Abboudy, L. Abulnasr

Published in: Journal of Electronic Materials | Issue 2/2018

Log in

Activate our intelligent search to find suitable subject content or patents.

search-config
loading …

Dont have a licence yet? Then find out more about our products and how to get one now:

Springer Professional "Wirtschaft+Technik"

Online-Abonnement

Mit Springer Professional "Wirtschaft+Technik" erhalten Sie Zugriff auf:

  • über 102.000 Bücher
  • über 537 Zeitschriften

aus folgenden Fachgebieten:

  • Automobil + Motoren
  • Bauwesen + Immobilien
  • Business IT + Informatik
  • Elektrotechnik + Elektronik
  • Energie + Nachhaltigkeit
  • Finance + Banking
  • Management + Führung
  • Marketing + Vertrieb
  • Maschinenbau + Werkstoffe
  • Versicherung + Risiko

Jetzt Wissensvorsprung sichern!

Springer Professional "Technik"

Online-Abonnement

Mit Springer Professional "Technik" erhalten Sie Zugriff auf:

  • über 67.000 Bücher
  • über 390 Zeitschriften

aus folgenden Fachgebieten:

  • Automobil + Motoren
  • Bauwesen + Immobilien
  • Business IT + Informatik
  • Elektrotechnik + Elektronik
  • Energie + Nachhaltigkeit
  • Maschinenbau + Werkstoffe




 

Jetzt Wissensvorsprung sichern!

Metadata
Title
Temperature Coefficients of Electrical Conductivity and Conduction Mechanisms in Butyl Rubber-Carbon Black Composites
Authors
M. A. Alzamil
K. Alfaramawi
S. Abboudy
L. Abulnasr
Publication date
01-12-2017
Publisher
Springer US
Published in
Journal of Electronic Materials / Issue 2/2018
Print ISSN: 0361-5235
Electronic ISSN: 1543-186X
DOI
https://doi.org/10.1007/s11664-017-5990-y

Other articles of this Issue 2/2018

Journal of Electronic Materials 2/2018 Go to the issue

Topical Collection: 59th Electronic Materials Conference 2017

Formation Mechanism of Atomically Flat Si(100) Surface by Annealing in Ar/H2 Ambient