Chemische Abscheidung aus der Gasphase: CVD-Verfahren

Der CVD (chemical vapor deposition)-Prozeß ist ein Verfahren, bei dem chemische Reaktionen in der Gasphase bei Drücken von 0,01 bis etwa 1 bar und Temperaturen von etwa 200...2000°C unter Zufuhr von Wärme- oder Strahlungsenergie ablaufen und dabei Festkörperprodukte und flüchtige Nebenprodukte bilden. Die einzelnen Gaskomponenten werden zusammen mit einem inerten Trägergas, meist Argon, durch die Reaktorkammer geleitet, in der die Festkörper durch eine heterogene Reaktion als Schicht oder eine homogene Reaktion als Pulver abgeschieden werden [8.1–8.1b].