RFID- basierte Prozesskontrolle in der Halbleiterfertigung

Die Idee, Radio Frequency Identifikation (RFID), Infrarot- oder Ultraschall-Technologien bzw. Kombinationen dieser Technologien für die Objektlokalisierung in Innenräumen zu nutzen, wird bereits seit Jahren diskutiert [1]. Obwohl Industrie und akademische Forschung mittlerweile einen beträchtlichen Forschungsaufwand in diesem Bereich unternommen haben, sind kommerziell verfügbare System für die Lokalisierung von Objekten und Personen immer noch vergleichsweise selten. Ein Grund hierfür mag die grosse Anzahl an technischen Hindernissen in vielen Konzepten sein, wie z. B. die unzureichende Robustheit bei schwierigen Umgebungsbedingungen oder die begrenzte Anzahl an Objekten, die gleichzeitig lokalisiert werden können. Ein weiterer Grund ist jedoch bislang auch der Mangel an betriebswirtschaftlich sinnvollen Anwendungsszenarien, die die hohen Investitionen in eine Lokalisierungsinfrastruktur und in die Systemintegration rechtfertigen könnten [2]. Vor diesem Hintergrund beschreibt dieser Artikel den Entwurf und die Implementierung eines Echtzeit-Lokalisierungssystems, welches für den Einsatz in der Halbleiterfertigung von Infineon Technologies entwickelt wurde. Das System vereint aktive RFID-, passive RFID- und Ultraschalltechnologie zur Verfolgung von Produktionslosen im Reinraum eines Halbleiterwerks.