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Microsystem Technologies

Published in:

01-04-2005

Simulation of deep UV lithography with SU-8 resist by using 365 nm light source

Authors: X. Tian, G. Liu, Y. Tian, P. Zhang, X. Zhang

Published in: Microsystem Technologies | Issue 4-5/2005

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Title: Simulation of deep UV lithography with SU-8 resist by using 365 nm light source
Authors: X. Tian
G. Liu
Y. Tian
P. Zhang
X. Zhang
Publication date: 01-04-2005
Publisher: Springer-Verlag
Published in: Microsystem Technologies / Issue 4-5/2005
Print ISSN: 0946-7076
Electronic ISSN: 1432-1858
DOI: https://doi.org/10.1007/s00542-004-0405-4