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Published in:

29-05-2020 | International Electron Devices and Materials Symposium 2019

Uniformity of Gate Dielectric for I/O and Core HK/MG pMOSFETs with Nitridation Treatments

Authors: Ching-Chuan Chou, Tien-Szu Shen, Jian-Ming Chen, Cheng-Hsun-Tony Chang, Shea-Jue Wang, Wen-How Lan, Mu-Chun Wang

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Title: Uniformity of Gate Dielectric for I/O and Core HK/MG pMOSFETs with Nitridation Treatments
Authors: Ching-Chuan Chou
Tien-Szu Shen
Jian-Ming Chen
Cheng-Hsun-Tony Chang
Shea-Jue Wang
Wen-How Lan
Mu-Chun Wang
Publication date: 29-05-2020
Publisher: Springer US
Published in: Journal of Electronic Materials / Issue 11/2020
Print ISSN: 0361-5235
Electronic ISSN: 1543-186X
DOI: https://doi.org/10.1007/s11664-020-08182-y