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2018 | OriginalPaper | Chapter

10. Spezielle Kontaminationsquellen

Authors : Martin Schottler, Wolfgang Eißler

Published in: Reinraumtechnik

Publisher: Springer Berlin Heidelberg

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Zusammenfassung

Durch die fortschreitende Minimierung der Strukturen in der Halbleiterindustrie haben sich die Anforderungen an die direkte Prozessumgebung in den letzten Jahren stark verändert. Historisch betrachtet bedeutete Kontaminationskontrolle die Sicherstellung einer temperatur- und feuchtegeregelten Umgebung, in der die Anzahl der Partikel bzw. Keime in der direkten Prozessumgebung kontrolliert bzw.

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Footnotes
1
1 ITRS Roadmap Edition 2015; Tabelle FI-10 Facilities Technology Requirements http://​www.​itrs2.​net/​itrs-reports.​html
 
2
2 ITRS Roadmap Edition 2015; Daten aus Tabelle FI-7 und FI-10 Facilities Technology Requirements http://​www.​itrs2.​net/​itrs-reports.​html
 
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Metadata
Title
Spezielle Kontaminationsquellen
Authors
Martin Schottler
Wolfgang Eißler
Copyright Year
2018
Publisher
Springer Berlin Heidelberg
DOI
https://doi.org/10.1007/978-3-662-54915-5_10

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