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2018 | OriginalPaper | Buchkapitel

10. Spezielle Kontaminationsquellen

verfasst von : Martin Schottler, Wolfgang Eißler

Erschienen in: Reinraumtechnik

Verlag: Springer Berlin Heidelberg

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Zusammenfassung

Durch die fortschreitende Minimierung der Strukturen in der Halbleiterindustrie haben sich die Anforderungen an die direkte Prozessumgebung in den letzten Jahren stark verändert. Historisch betrachtet bedeutete Kontaminationskontrolle die Sicherstellung einer temperatur- und feuchtegeregelten Umgebung, in der die Anzahl der Partikel bzw. Keime in der direkten Prozessumgebung kontrolliert bzw.

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Fußnoten
1
1 ITRS Roadmap Edition 2015; Tabelle FI-10 Facilities Technology Requirements http://​www.​itrs2.​net/​itrs-reports.​html
 
2
2 ITRS Roadmap Edition 2015; Daten aus Tabelle FI-7 und FI-10 Facilities Technology Requirements http://​www.​itrs2.​net/​itrs-reports.​html
 
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Zurück zum Zitat The Basics of Air Ionization for High Technology Manufacturing Applications, Arnold Steinman, Compliance Engineering (2006) The Basics of Air Ionization for High Technology Manufacturing Applications, Arnold Steinman, Compliance Engineering (2006)
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Zurück zum Zitat SEMI E43-0301: Guide for measuring static charge on objects and surfaces (2001) SEMI E43-0301: Guide for measuring static charge on objects and surfaces (2001)
Metadaten
Titel
Spezielle Kontaminationsquellen
verfasst von
Martin Schottler
Wolfgang Eißler
Copyright-Jahr
2018
Verlag
Springer Berlin Heidelberg
DOI
https://doi.org/10.1007/978-3-662-54915-5_10

    Marktübersichten

    Die im Laufe eines Jahres in der „adhäsion“ veröffentlichten Marktübersichten helfen Anwendern verschiedenster Branchen, sich einen gezielten Überblick über Lieferantenangebote zu verschaffen.