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Published in:

01-08-2002 | Special Issue Paper

The effect of O₂ ambient annealing on the microstructure of Cu(Mg) in the form of a Cu(Mg)/SiO₂/Si multilayer

Authors: W. H. Lee, Y. K. Ko, B. J. Kang, B. S. Cho, H. J. Yang, G. S. Chae, H. S. Soh, J. G. Lee

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Title: The effect of O2 ambient annealing on the microstructure of Cu(Mg) in the form of a Cu(Mg)/SiO2/Si multilayer
Authors: W. H. Lee
Y. K. Ko
B. J. Kang
B. S. Cho
H. J. Yang
G. S. Chae
H. S. Soh
J. G. Lee
Publication date: 01-08-2002
Publisher: Springer-Verlag
Published in: Journal of Electronic Materials / Issue 8/2002
Print ISSN: 0361-5235
Electronic ISSN: 1543-186X
DOI: https://doi.org/10.1007/s11664-002-0195-3